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氮化矽陶瓷球的拋光方法(上)

文章出處:http://www.chinaxingxin.com/industry/173.html人氣:323時間:2020-06-09

氮化矽陶瓷近年來被廣泛的應用到各行各業中,像先進航空發動機、CNC機床上用的高速電主軸以及一些具有耐高溫的軸承等,都是將氮化矽陶瓷作為了首選材料。然而要先讓一塊氮化矽陶瓷變成能夠真正應用在關鍵部位的產品,還需要很多複雜而精密的加工工序。拋光就是這些方式中的一種,今天69热视频app下载就來為大家介紹一下碳化矽陶瓷常見的幾種拋光方式,69热视频app下载將分為上、下兩個篇幅來分別介紹。
目前常見的氮化矽陶瓷拋光方式主要有:磁流體拋光(MFP)、化學機械拋光(CMP)、超聲震動輔助拋光(UVP)、集群磁流變拋光等四種,本篇69视频app污下载免费先來介紹前兩種。
磁流體拋光(MFP)
磁流體陶瓷拋光是在氧化鐵的膠質中加入5~10%體積百分比為的磨料形成混合液。同時在磁場作用下,磁性粒子向強磁場方向運動,對磨料產生反向浮力,使磨料懸浮於磁流體中。氮化矽陶瓷球坯放置於充滿磁流體與磨料混合液的圓柱形研磨盤內(常為鋁質),其下是一排條狀永磁極(Nd-Fe-B等)。當驅動軸旋轉時,球坯在磁流體和磨料的混合液中一邊自轉一邊繞研磨盤公轉,懸浮在磁流體中的磨料對陶瓷球進行拋光。

氮化矽陶瓷磁流體拋光原理圖
磁流體拋光原理圖


氮化矽陶瓷球坯所受壓力較小(約為1N/球)且為彈性,大大減少了機械研磨在陶瓷球表麵產生的劃痕及微裂紋等缺陷。使用磁流體拋光加工的球體,其材料去除率可達到12μm/min,是傳統V型槽研磨加工去除率的40餘倍。

化學機械拋光(CMP)
化學機械拋光目前已廣泛應用於各種工程陶瓷、功能陶瓷和金屬材料的超精密加工。 

氮化矽陶瓷化學拋光原理圖
化學拋光模型


拋光時,懸浮於液態介質中的納米級軟質磨粒,在與工件的接觸點上因摩擦而產生高溫高壓,並在極短的時間內,發生化學反應,生成比工件材料軟、更容易去除的新物質。反應產物以0.1 nm的微小單位,由工件與後續磨料及拋光盤之間的機械摩擦作用去除,從而獲得超光滑表麵。
傳統的機械研磨拋光方法大致有兩類:一類是杯狀研具加工方法;另一類是磨盤加工方法。為了有效減少表麵缺陷,在陶瓷球的精加工中開發了新的加工技術,具備“柔和”的加工條件。既實現低水平的約束力,也能采用較高的研磨速度,可以實現高的餘量去除速度和更短的加工周期。
無論是磁流體還是化學機械拋光,都有其獨特的優勢。下一篇文章69热视频app下载將繼續為您講解有關氮化矽陶瓷球拋光的另外兩種方式,供您參考學習。69视频app污下载免费陶瓷是一家專業的陶瓷加工廠家,69热最新下载地址提供各種超高精密氮化矽陶瓷加工,谘詢熱線:13412856568。
 

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